欢迎来到上海领德仪器有限公司网站!
咨询热线

13361878717

当前位置:首页  >  技术文章  >  无油真空泵在半导体行业的特点和应用

无油真空泵在半导体行业的特点和应用

更新时间:2026-08-28  |  点击率:17

        真空环境是半导体制造的基础条件之一。光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入等核心工艺均在真空腔室内完成。然而,提供真空环境的真空泵本身却可能成为污染源——传统油封式真空泵在运行过程中会产生油蒸气返流,油分子在高温和等离子体环境下还会裂解生成微米级碳颗粒。这些油污染物进入工艺腔室后,会直接附着在晶圆表面、光学镜片上或混入反应气体中,导致良率下降、设备损坏、批次报废。因此,现代半导体工厂已全面采用无油真空泵(干式真空泵),从源头上消除油污染风险。

        无油真空泵,又称干式真空泵,是指在整个抽气过程中不使用润滑油或其他液态介质作为密封、润滑或冷却介质的真空泵。其密封与润滑功能通过特殊的机械结构设计和材料选择来实现,确保泵腔内部与工艺气体接触的部件无油。目前常用的无油真空泵主要包括以下两类:

1图.jpg

●活塞式无油真空泵——采用往复式活塞结构,电机通过曲轴驱动活塞在气缸内做往复直线运动,当活塞向外拉动时,进气阀门打开,气体被吸入气缸;当活塞向内推进时,进气阀门关闭,气体被压缩后顶开出气阀门排出。为实现无油运行,活塞环通常采用橡胶等制造,这些材料摩擦系数低、耐磨损,能够在无润滑油条件下长期运转。气缸壁和活塞之间保持精密配合间隙,依靠材料自身的润滑性能而非油膜实现密封。

2图.jpg

●隔膜式无油真空泵——采用弹性隔膜作为往复运动元件。电机驱动偏心轮旋转,通过连杆机构带动弹性隔膜在泵头内做往复弯曲运动。隔膜将泵腔分隔为两个独立空间:一侧为气体压缩腔,另一侧为驱动机构腔。当隔膜向远离泵头的方向运动时,气体压缩腔容积增大,形成负压,进气阀门打开吸入气体;当隔膜向泵头方向运动时,腔内气体被压缩,出气阀门打开排出气体。由于隔膜的存在,工艺气体与驱动机构隔离。部分机型如Sciencetool圣斯特CH410,因为与气体接触的部件全部采用PTFE聚四氟乙烯材料,对腐蚀性气体具有良好的耐受性。

       上述两类泵的共同特点是与工艺气体接触的泵腔内部不存在任何液态润滑介质,从根本上杜绝了油污染的可能。所以其与油封式真空泵的根本区别首先体现在密封方式上。无油泵依靠转子与泵腔之间精密的机械间隙以及特殊涂层来实现气体密封,转子之间并不直接接触;而油封式泵则依赖润滑油膜填充转子与泵腔之间的微小空隙,油膜既是密封介质也是润滑介质。这一设计差异决定了无油泵的泵腔内不存在任何液态油,杜绝了油蒸气返流和油裂解微粒的产生;油封式泵则不可避免地存在油蒸气向真空系统返流的风险,成为工艺腔室的潜在污染源。

         在润滑与冷却方面,无油真空泵依靠密封圈润滑,通过风机冷却;油封式泵则依赖润滑油进行润滑和冷却,油在泵内循环使用,持续吸收热量并带走磨损颗粒。这意味着无油泵无需定期更换润滑油和油雾分离滤芯,而油封式泵必须进行换油维护,维护期间设备停机,直接影响产线产能。

         从运行特性来看,无油真空泵通常具有更低的运行噪音和振动水平,一般可控制在55分贝以下,适合部署在对环境噪音敏感的洁净车间或实验室区域;油封式泵的运行噪音通常在70至85分贝之间,且振动相对较大,往往需要额外的隔音和减振措施。

        在真空性能方面,先进的无油泵通过多级串联,能够达到高的极限真空度,可以满足半导体制造的严苛要求;传统的单级油封旋片泵极限真空度虽然较高,但油污染风险也随之增加。

        成本层面,从全生命周期成本角度核算,无油泵省去了持续的泵油采购费用、定期维护的人工成本、换油停机造成的产能损失,以及废油作为危险废弃物所需的环保处理费用,所以是综合成本更低的方案。

        在了解了无油真空泵具体原理和特点之后,我们再来进一步介绍在半导体研发和生产领域具体可以和哪些设备搭配使用:

●晶圆真空吸附平台与探针台——在晶圆切割、研磨以及晶圆探针测试工序中,晶圆需要被牢固吸附在真空吸附平台上,以防止微米级位移影响加工或测试精度。通常其真空吸附系统通常要求稳定真空,且必须保证绝对无油,避免油污染在晶圆背面留下痕迹。无油真空泵能提供较高的抽气速率和相对稳定的真空度,适合需要持续吸附力的晶圆固定场景。设备厂商通常会将活塞泵集成于设备机柜底部,通过PLC控制泵的启停,与真空压力传感器联动,实现吸附压力的闭环控制。人员R610-HF大功率无油真空泵,能够提供高达0.098MPa的较高真空度,抽吸速率也能满足管路需要。

●光刻胶涂布机的真空吸附——涂胶显影track设备中,晶圆被放置于真空吸附式的旋转卡盘上,进行光刻胶的旋涂。同时,在涂胶完成后,部分设备配备真空辅助的边缘光刻胶去除单元,利用真空吸附固定晶圆边缘进行局部处理。无油真空泵,尤其是耐腐蚀的机型在此类场景中具有独特优势。由于隔膜泵能够实现工艺气体与驱动机构的隔离,即使光刻胶中含有微量挥发性有机溶剂,也不会对泵的驱动部件造成腐蚀或污染。此类设备通常对抽速要求不高,可以使用ACC410防腐蚀隔膜真空泵,内部喷涂了防腐蚀涂层,能够耐受吸附的溶剂。

●芯片封装环节的真空包装与拾取——在芯片封装的最后阶段,完成的芯片或晶圆在运输前常需进行真空包装或氮气置换包装,以防止氧化和湿气侵入。活塞式无油真空泵被集成于真空包装机中,通过真空管路连接包装腔室,快速抽出空气后充入干燥氮气。由于包装直接与成品芯片接触,无油是硬性要求,任何油污染都可能导致引线框架或焊盘的可焊性下降。此外,在自动化封装产线上,真空吸嘴用于拾取和放置芯片。每条产线通常分布式的小型无油真空泵,为数十个真空吸嘴提供负压源。如圣斯特的R410无油真空泵,其体积小巧、低噪音(50dB)和免维护特性,使其适合部署在产线设备内部或紧邻工位,通过设备的气动控制系统统一调度。而740mmHg的真空吸力也满足了真空吸附的要求。